Linea di produzione di materiale di carbonio di silicio di deposito di gas

Il materiale dell'elettrodo negativo del carbonio del silicio di deposito di vapore è un materiale dell'elettrodo negativo formato caricando uniformemente il silicio (Si) sotto forma di particelle a nanoscala, film sottili o nanofili sulla superficie o all'interno di un substrato di carbonio (come grafite, nanotubi di carbonio) attraverso tecniche di deposito chimico del vapore (CVD) o di deposito fisico del vapore (PVD) e rivestendolo con uno strato di carbonio per formare una struttura composita stabile del "carbonio del silicio". Il suo vantaggio principale è la dispersione nanoscale più uniforme del silicio, il legame più forte tra silicio e interfaccia di carbonio, che può massimizzare l'alta capacità del silicio (teorica 4200mAh / g) e sopprimere l'espansione del volume (attraverso la tamponamento della matrice di carbonio). Si tratta di un importante percorso tecnico per la produzione in massa di elettrodi negativi al carbonio in silicio ad alta densità energetica. La linea di produzione è progettata intorno al "rivestimento di carbonio di deposito di silicio in fase di vapore / controllo della struttura composita".