Forno rotativo CVD

Il forno rotativo CVD per materiale di elettrodo positivo ternario è un'attrezzatura centrale per il rivestimento superficiale o la modifica del doping dei materiali di elettrodo positivo agli ioni di litio attraverso la tecnologia di deposizione chimica di vapore. La sua funzione principale è depositare uniformemente nanorivestimenti di precursori di fase gassosa sulla superficie dei materiali in ambiente di protezione ad alta temperatura e atmosfera, migliorando la stabilità del ciclo del materiale e le prestazioni del tasso.

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Punti salienti del prodotto

Sinergia rotazione+deflectore

La frequenza di ribaltamento del materiale è aumentata di 3 volte, la deviazione dello spessore del rivestimento è ≤ 50nm e le prestazioni elettriche sono migliorate del 15% rispetto al CVD statico.

Controllo della temperatura indipendente a tre zone di temperatura

Zona di preriscaldamento (400 ℃) → zona di reazione (800 ℃) → zona di raffreddamento (300 ℃) regolazione segmentata per ridurre la decomposizione prematura dei precursori.

Ambiente inerte completamente chiuso

Protezione dell'azoto + monitoraggio in tempo reale del contenuto di ossigeno per eliminare il rischio di esplosione dell'ossigeno nei materiali ad alto contenuto di nichel.

Progettazione del materiale anti-blocco

L'angolo di inclinazione del tubo del forno può essere regolato da 0 a 35 gradi, e la barra di spinta idraulica assiste allo scarico, con un tasso residuo inferiore allo 0,1%.

Controllo della temperatura programmato a 30 segmenti

Precisione dell'algoritmo PID ± 1 ℃, supporta il tasso di riscaldamento di 30 ℃ / min, riduce il consumo energetico del 40%

Parametri del prodotto

Temperatura massima (℃)	Capacità di lavorazione (Kg)	Precisione di controllo temperatura (℃)	Velocità del tubo del forno (r/min)	Angolo di inclinazione (°)
1200	25-100	±1	3~13	0~35

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