Ligne de production de matériaux de carbone de silicium de dépôt de gaz
01. Zone de carbonisation
02. Zone mixte
03. Zone de concassage
04. Zone de séchage
05. Zone de compression
06. Zone active
07. Zone de lavage acide
02. Zone mixte
03. Zone de concassage
04. Zone de séchage
05. Zone de compression
06. Zone active
07. Zone de lavage acide
08. Zone centrifuge
09. Zone de concassage de flux d'air
10. Zone de dépôt de silane
11. Zone recouverte de carbone
12. Partition de dépistage démagnétisée
13. Zone d'emballage
09. Zone de concassage de flux d'air
10. Zone de dépôt de silane
11. Zone recouverte de carbone
12. Partition de dépistage démagnétisée
13. Zone d'emballage
Aperçu de la solution
Le matériau d'électrode négative de silicium de dépôt de vapeur est un matériau d'électrode négative formé par le chargement uniforme de silicium (Si) sous forme de particules à nanoéchelle, de films minces ou de nanofils sur la surface ou à l'intérieur d'un substrat de carbone (tel que le graphite, les nanotubes de carbone) par des techniques de dépôt chimique de vapeur (CVD) ou de dépôt physique de vapeur (PVD), et le revêtement avec une couche de carbone pour former une structure composite stable de "carbone de silicium". Son avantage principal est la dispersion nanoscale plus uniforme du silicium, une liaison plus forte entre le silicium et l'interface carbone, qui peut maximiser la capacité élevée du silicium (théorique 4200mAh / g) et supprimer l'expansion du volume (par tampon de matrice carbone). C'est une voie technique importante pour la production en masse d'électrodes négatives de carbone de silicium à haute densité énergétique. La ligne de production est conçue autour de "revêtement carbone de dépôt de silicium en phase vapeur / contrôle de la structure composite".
-
1800
mAh
Capacité: ≥ -
90
%
Premier effet: ≥ -
15%-30
%
Contenu en carbone: ≥
Paramètres
| Nom du Paramètre | Plage Typique | Méthode d'Essai |
|---|---|---|
| Teneur en Noyau de Silicium | 45 % - 55 % | Analyse Thermogravimétrique TG |
| Teneur en Couche de Carbone | 15 % - 30 % | Cartographie TEM-EDS |
| Teneur en Oxygène | ≤5 % | Profilage en Profondeur XPS |
| Impuretés Métalliques (Fe / Ni) | ≤20 ppm | Spectrométrie de Masse par Décharge Luminescente (GD-MS) |
| Résidu d'Hydrogène | ≤0,1 % | Chromatographie en Phase Gazeuse |
| Capacité de Décharge Initiale | 1800 - 2500 mAh/g | 0,1C, 0,005 - 2,0 V |
| Efficacité Coulombique Initiale | 88 % - 95 % | 0,1C, 0,005 - 2,0 V |
| Durée de Vie en Cycle | ≥1000 | 1C, 100 % DOD |
| Taux d'Expansion en Volume | 15 % - 25 % | Mesure de l'Épaisseur de l'Électrode |
| Capacité de Débit (Rate Capability) | Capacité à 5C ≥1600 mAh/g | Décharge à 5C |
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