Four rotatif CVD

Le four rotatif CVD de matériau électrode positive ternaire est un équipement de base pour le revêtement de surface ou la modification de dopage des matériaux électrode positive lithium-ion par la technologie de dépôt de vapeur chimique. Sa fonction principale est de déposer uniformement des nano-revêtements de précurseurs de phase gazeuse sur la surface des matériaux sous une température élevée et un environnement de protection atmosphérique, améliorant la stabilité du cycle du matériau et les performances de vitesse.

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Points saillants du produit

Synergie de rotation+baffle

La fréquence de retournement du matériau est augmentée de 3 fois, l'écart d'épaisseur du revêtement est ≤ 50nm et les performances électriques sont améliorées de 15% par rapport au CVD statique.

Contrôle de température indépendant de trois zones de température

Zone de préchauffage (400 ℃) → zone de réaction (800 ℃) → Régulation segmentée de la zone de refroidissement (300 ℃) pour réduire la décomposition prématurée des précurseurs.

Environnement inerte entièrement fermé

Protection de l'azote + surveillance en temps réel de la teneur en oxygène pour éliminer le risque d'explosion d'oxygène dans les matériaux riches en nickel.

Conception de matériau anti-blocage

L'angle d'inclinaison du tube du four peut être réglé de 0 à 35 degrés, et la tige de poussée hydraulique aide à la décharge, avec un taux résiduel inférieur à 0,1%.

Contrôle de température programmé en 30 segments

La précision de l'algorithme PID ± 1 ℃, prend en charge le taux de chauffage de 30 ℃ / min, réduit la consommation d'énergie de 40%

Paramètres du produit

Température maximale (℃)	Capacité de traitement (kg)	Précision du contrôle de température (℃)	Vitesse du tube du four (tr/min)	Angle de inclinaison (°)
1200	25-100	±1	3~13	0~35

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