Four horizontal

Le four de séchage horizontal à oxygène en silicium est un équipement de séchage à basse température et à haut rendement conçu spécifiquement pour les matériaux à base de silicium. Son noyau permet une déshydratation uniforme des matériaux sensibles à la chaleur et facilement oxydables par l'environnement sous vide, le chauffage conducteur et l'agitation / vibration mécanique, évitant le risque de détérioration ou d'oxydation à haute température.

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Points saillants du produit

Chauffage entre couches de grande superficie

La surface de chauffage atteint 6-19,3 m2, l'efficacité de transfert de chaleur est augmentée de 30% et le cycle de séchage est raccourci.

Mélanges/vibrations dynamiques

Les dents raclées ou la technologie de fluidisation par vibration éliminent les coins morts des matériaux, avec un écart d'uniformité inférieur à 5%, évitant les dommages à la structure de l'oxyde de silicium causés par la surchauffage locale.

Système de vide entièrement fermé

Le degré de vide atteint 0,09-0,1 MPa, inhibe la réaction d'oxydation, le taux de récupération du solvant > 95%, réduit les émissions de COV.

Fonctionnement sans poussière

Structure fermée + interface d'élimination intégrée de la poussière (telle que la vanne à dôme étanche au gaz), taux de matériau résiduel <1%, en conformité avec les exigences de certification GMP / FDA.

Large plage de température contrôle de température

La veste prend en charge la circulation d'eau chaude / d'huile thermique, avec une plage de contrôle de température de -20 ° C à 300 ° C, répondant aux exigences complètes du processus des matériaux d'oxyde de silicium, de la déshydratation à basse température à la carbonisation à haute température.

Paramètres du produit

Volume de travail (L)	Surface de chauffage (m²)	Puissance (kW)	Plage de contrôle de température (℃)	Degré de vide (MPa)
500–1500	3,3–9,1	3,3–5,5	≤130	5,2×10⁻³

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