CVD ротационная печь

Тройный положительный электродный материал CVD ротационная печь является основным оборудованием для поверхностного покрытия или допинговой модификации литий-ионных положительных электродных материалов с помощью технологии химического отложения пара. Его основная функция состоит в однородном отложении нанопокрытий газофазных прекурсоров на поверхность материалов в условиях высокой температуры и защиты атмосферы, улучшая стабильность цикла материала и производительность скорости.

Цитировать сейчас

Особенности продукта

Синергия ротации+бафеля

Частота переворота материала увеличивается в 3 раза, отклонение толщины покрытия ≤ 50 нм, а электрическая производительность улучшается на 15% по сравнению со статическим CVD.

Независимый контроль температуры трех температурных зон

Зона предварительного нагрева (400 ℃) → зона реакции (800 ℃) → зона охлаждения (300 ℃) сегментированное регулирование для уменьшения преждевременного разложения прекурсоров.

Полностью закрытая инертная среда

Защита от азота + мониторинг содержания кислорода в режиме реального времени для устранения риска взрыва кислорода в материалах с высоким содержанием никеля.

Конструкция антиблокирующего материала

Угол наклона трубки печи может быть регулирован от 0 до 35 градусов, а гидравлический толкающий прутник помогает разряду, при остаточной скорости менее 0,1%.

30-сегментный запрограммированный контроль температуры

Точность алгоритма PID ± 1 ℃, поддерживает скорость нагрева 30 ℃ / мин, снижает потребление энергии на 40%

Параметры продукта

Максимальная температура (°C)	Производительность переработки (кг)	Точность контроля температуры (°C)	Скорость вращения трубки печи (об/мин)	Угол наклона (°)
1200	25–100	±1	3–13	0–35

Проведите влево и вправо, чтобы просмотреть полную таблицу