Forno horizontal

O forno de secagem horizontal de oxigênio de silício é um equipamento de secagem de baixa temperatura e alta eficiência projetado especificamente para materiais à base de silício. Seu núcleo consegue desidratação uniforme de materiais sensíveis ao calor e facilmente oxidáveis através de ambiente de vácuo, aquecimento condutor e agitação mecânica / vibração, evitando o risco de deterioração ou oxidação a altas temperaturas.

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Destaques do produto

Aquecimento entre camadas de grande área

A área de aquecimento atinge 6-19,3 m2, a eficiência de transferência de calor aumenta em 30% e o ciclo de secagem é encurtado.

Mistura dinâmica/vibração

A tecnologia de fluidização por vibração elimina os cantos mortos dos materiais, com um desvio de uniformidade inferior a 5%, evitando danos à estrutura do óxido de silício causados pelo sobreaquecimento local.

Sistema de vácuo totalmente fechado

O grau de vácuo atinge 0,09-0,1 MPa, inibe a reação de oxidação, taxa de recuperação de solvente> 95%, reduz as emissões de COV.

Operação livre de poeira

Estrutura fechada + interface de remoção de poeira integrada (como válvula de cúpula selada a gás), taxa de material residual <1%, em conformidade com os requisitos de certificação GMP / FDA.

Ampla gama de temperatura controle de temperatura

A jaqueta suporta a circulação de água quente / óleo térmico, com uma faixa de controle de temperatura de -20 ℃ a 300 ℃, atendendo aos requisitos completos do processo de materiais de óxido de silício da desidratação a baixa temperatura à carbonização a alta temperatura.

Product Parameters

Volume de trabalho (L)	Área de aquecimento (m²)	Potência (kW)	Faixa de controle de temperatura (℃)	Grau de vácuo (MPa)
500–1500	3,3–9,1	3,3–5,5	≤130	5,2×10⁻³

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