Forno rotativo CVD

O forno rotativo CVD de material de eletrodo positivo ternário é um equipamento central para revestimento de superfície ou modificação de doping de materiais de eletrodo positivo de íons de lítio através da tecnologia de deposição de vapor químico. Sua função principal é depositar uniformemente nano revestimentos de precursores de fase gás na superfície de materiais sob alta temperatura e ambiente de proteção da atmosfera, melhorando a estabilidade do ciclo do material e o desempenho da taxa.

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Destaques do produto

Sinergia de rotação + baffle

A frequência de viragem do material é aumentada em 3 vezes, o desvio da espessura do revestimento é ≤ 50nm e o desempenho elétrico é melhorado em 15% em comparação com o CVD estático.

Controle de temperatura independente de três zonas de temperatura

Zona de pré-aquecimento (400 ℃) → zona de reação (800 ℃) → zona de refrigeração (300 ℃) regulação segmentada para reduzir a decomposição prematura dos precursores.

Ambiente inerte totalmente fechado

Proteção de nitrogênio + monitoramento em tempo real do conteúdo de oxigênio para eliminar o risco de explosão de oxigênio em materiais com alto níquel.

Projeto de material anti-bloqueio

O ângulo de inclinação do tubo do forno pode ser ajustado de 0 a 35 graus, e a haste de empurrão hidráulica auxilia na descarga, com uma taxa residual inferior a 0,1%.

Controle de temperatura programado em 30 segmentos

A precisão do algoritmo PID ± 1 ℃, suporta a taxa de aquecimento de 30 ℃ / min, reduz o consumo de energia em 40%

Product Parameters

Temperatura máxima (℃)	Capacidade de processamento (Kg)	Precisão de controle de temperatura (℃)	Velocidade do tubo do forno (r/min)	Ângulo de inclinação (°)
1200	25-100	±1	3~13	0~35

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