CVD回转炉

CVD回转炉是一种通过化学气相沉积技术对锂电正极材料进行表面包覆或掺杂改性的核心设备。其核心功能是在高温、气氛保护环境下，使气相前驱体在材料表面均匀沉积纳米涂层，提升材料循环稳定性和倍率性能。

产品特色

30段程序化温控

PID算法精度±1℃，支持升温速率30℃/min，能耗降低40%

防堵料设计

炉管倾角0~35°可调，液压推杆辅助出料，残留率＜0.1%。

全封闭惰性环境

氮气保护+氧含量实时监测，杜绝高镍材料产氧爆炸风险。

三温区独立控温

预热区（400℃）→反应区（800℃）→冷却区（300℃）分段调控，减少前驱体提前分解。

旋转+挡板协同

物料翻转频率提升3倍，涂层厚度偏差≤50nm，较静态CVD电性能提升15%。

最高温度	处理量	控温精度	炉管转速	倾斜角度
1200℃	25Kg-100Kg	±1℃	3~13r/min	0~35°

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